我校拟对材化学院磁控溅射离子复合镀进行公开招标采购，欢迎相关具有资质的厂商投标报名。详细技术要求如下：

    技术参数：磁控溅射室；磁控溅射靶；直流电源；

              离子速溅射室；四工位转靶；真空测量系统；

              计算机控制镀层系统；制备超薄膜—中厚膜。

    报名截止日期：2008年7月8日下午4点

    地点：新利登录,（中国）科技公司国资处（未央校区）

    联系电话：029-83208036，86173142

    联系人：李老师，陈老师，朱老师